紫外线是太阳光光谱中的一部分，波长为10～400nm。主要分为三个波段，即UVA，UVB和UVC。

UVA为长波紫外，波长范围315～400nm，穿透力强，可达到皮肤真皮层，导致皮肤老化！UVA365/395nmLED在工业固化（如印刷，涂料，3D打印）和荧光检测等领域广泛应用。

UVB为中波紫外，波长范围280～315nm，部分穿透臭氧层，会导致皮肤红斑，DNA突变，增加皮肤癌风险！

UVC为短波紫外，波长范围100～280nm，被臭氧层吸收，几乎到达不了地面。人工光源为主，其中250～275nm，广泛用于紫外杀菌，消毒，如低压汞灯235.7nm，UVCLED265～280nm，表面/空气/水处理系统等！

DUV和EUV是紫外光谱中的两个重要技术波段，主要应用于半导体光刻，精密制造和科研领域。DUV为深紫外，波长范围100～300nm，关键子波段为真空紫外VUV（100～200nm），工业核心波长193nm（ArF激光）、248nm（KrF激光）。EUV为极紫外，波长范围10～100nm，工业核心光可用波长13.5nm，高端半导体制造7nm、5nm、3nm逻辑芯片制造，科研领域太阳极紫外辐射观测，核聚变实验诊断等。

DUV是当前半导体行业主力，受限于衍射极限，需多重曝光实现7nm制程。

EUV是未来技术主攻方向，突破物理极限，目前仅少数厂商掌握相关技术。ASML是目前全球唯一能够量产EUV光刻机的厂商。

来源：实验室石英玻璃