光掩模版是光学、半导体等行业的核心材料，其性能直接影响下游产品质量。作为光刻工艺的关键载体，光掩模版广泛应用于集成电路（IC）、平板显示器（FPD）、印刷电路板（PCB）、微机电系统（MEMS）等领域。

而光掩模基板（又称空白掩膜板）作为光刻成图前的原始材料，是光掩模版的基础载体，其主要由玻璃层、膜层和胶层组成，其中玻璃基板和膜层是决定产品性能的核心要素，其制备流程为：在洁净的石英或玻璃衬底上，通过磁控溅射形成100-200nm的铬膜（或钼硅膜与铬膜）坯料，再涂布400-1000nm的光刻胶。

光掩模基板的玻璃基板主要采用石英玻璃和钠钙玻璃，二者均具备高光学透过率、低热膨胀率和优良光谱特性，适用于高精度光掩模基板制造。其中，石英玻璃凭借纯度高、化学稳定性强、透光性优异等特点，成为IC用光掩模等高端领域的首选材料；钠钙玻璃则更多应用于中低端场景。值得注意的是，光刻级石英材料对性能要求极为苛刻，仅光学均匀性就需控制在1.0×10-6（cm/cm）以内，这对石英锭熔制、加工等各个环节都提出了极高标准。

作为光掩模基板用石英玻璃的核心环节，石英锭的制备工艺主要分为熔炼石英玻璃与合成石英玻璃两类：熔炼石英玻璃以电熔工艺和气炼工艺为主；合成石英玻璃则包括化学气相沉积（CVD）、等离子化学气相沉积（PCVD）、间接合成法等。其中，以合成石英制成光掩模石英玻璃基板的工艺尤为复杂，以应用广泛的化学气相沉积法（CVD）为例，需以SiCl4为原料，在氢氧焰中高温水解生成SiO2微粒，经沉积熔化形成高纯石英锭，再通过切割、热加工（成型为石英板）、冷加工（切割、开方、倒角、磨抛等），最终制成光掩模石英玻璃基板。

除基板材料本身的制备工艺外，膜层形成过程中产生的针孔缺陷也是掩膜基板的主要不良来源之一，超过40%的基板不良率与针孔直接相关。针孔会造成膜层漏光，在曝光显影时引发线条钻蚀、凹陷、锯齿等问题，严重影响产品良率，因此，针孔缺陷控制也是光掩模基板制造过程中的关键技术难点。

来源：中国粉体网